(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202123042602.8 (22)申请日 2021.12.0 3 (73)专利权人 广东中科微精光子制造科技有限 公司 地址 523000 广东省东莞 市松山湖园区桃 园路1号9栋 301室 (72)发明人 张玉涛　张时旻　薛建雄　林东涛　 林小波　杨小君　朱建海　 (74)专利代理 机构 广州三环 专利商标代理有限 公司 44202 专利代理师 张艳美　赵贯杰 (51)Int.Cl. B23K 26/142(2014.01) B23K 26/70(2014.01) (54)实用新型名称 基于底面背光源的激光加工平台 (57)摘要 本实用新型公开了一种基于底面背光源的 激光加工平台， 其包括基体和位于基体顶部的支 撑台， 基体内设置有容置空间， 支撑台盖设于容 置空间的顶部， 支撑台用于放置待加工工件， 容 置空间内设置有光源模块， 支撑台具有透光性， 以使得光源模块发出的光可透过支撑台， 光源模 块用于为支撑台上的待加工工件提供视觉定位 用光源； 通过本实用新型激光加工平台， 当将待 加工工件放置在支撑台上进行激光加工作业时， 光源模块从支撑台的背部为待加工工件提供相 机抓拍mark点所需光源， 从而使得光源模块发出 的光无阻碍地投射到待加工工件 上， 有效确保待 加工工件上的mark 点被准确识别。 权利要求书1页 说明书3页 附图2页 CN 216680706 U 2022.06.07 CN 216680706 U 1.一种基于底面背光源的激光加工平台， 其特征在于， 包括基体和位于所述基体顶部 的支撑台， 所述基体内设置有容置空间， 所述支撑台盖 设于所述容置空间的顶部， 所述支撑 台用于放置待加工工件， 所述容置空间内设置有光源模块， 所述支撑台具有透光性， 以使得 所述光源模块发出的光可透过所述支撑台， 所述光源模块用于为所述支撑台上的待加工工 件提供视 觉定位用光源。 2.根据权利要求1所述的基于底面背光源的激光加工平台， 其特征在于， 还包括抽负压 装置， 所述支撑台与所述基体之 间密封连接， 以使得所述容置空间为一密闭空间， 且所述基 体上设置有与所述抽负压装置连通的负压孔， 所述支撑台上设置有 若干吸附通 孔。 3.根据权利要求2所述的基于底面背光源的激光加工平台， 其特征在于， 若干所述吸附 通孔均匀分布在所述支撑台上。 4.根据权利要求1所述的基于底面背光源的激光加工平台， 其特征在于， 所述支撑 台为 透光率在90％以上的玻璃板或树脂版。 5.根据权利要求1所述的基于底面背光源的激光加工平台， 其特征在于， 所述基体采用 不锈钢材 料制作。 6.根据权利要求1所述的基于底面背光源的激光加工平台， 其特征在于， 所述容置空间 内还设置有密封防尘空间， 所述光源模块设置在所述防尘空间中， 所述防尘空间的顶部设 置有与所述支撑台相对的透光板 。 7.根据权利要求1所述的基于底面背光源的激光加工平台， 其特征在于， 所述容置空间 内还设置有用于带动所述 光源模块移动的位移驱动机构。 8.根据权利要求7所述的基于底面背光源的激光加工平台， 其特征在于， 所述位移驱动 机构包括第一滑动机构和第二滑动机构， 所述第二滑动机构安装在所述第一滑动机构上， 所述光源模块安装在所述第二滑动机构上， 所述第一滑动机构用于带动所述第二滑动机构 沿X轴方向移动， 所述第二滑动机构用于带动所述 光源模块沿Y轴方向移动。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 216680706 U 2基于底面背光源的激光加工 平台 技术领域 [0001]本实用新型涉及激光加工技术领域， 尤其涉及一种基于底面背光源的激光加工平 台。 背景技术 [0002]激光加工行业中， 用于坐标定位的Mark点(位置识别定位点)的识别和抓取一直是 一种较难解决的问题。 Mark点的抓取不仅与相机(CCD)有关， 更与放置工件的平台非常相 关。 对于现有的激光加工平台来说， 用于Mark点抓取的相机所使用的均为正面光源， 也即将 光源设置在加工平台的正上方， 然而在实际工作过程中发现， 正面光源容易被遮挡而出现 照明死角， 从而使得有些工件上的Mark点无法在正面光源下被很好的识别出来， 影响激光 加工作业的质量和效率。 实用新型内容 [0003]本实用新型的目的是为解决上述技术问题的不足而提供一种有效确保工件上的 mark点被准确识别的基于底面背光源的激光加工平台。 [0004]为了实现上述目的， 本实用新型公开了一种基于底面背光源的激光加工平台， 其 包括基体和位于所述基体顶部的支撑台， 所述基体内设置有容置空间， 所述支撑台盖设于 所述容置空间的顶部， 所述支撑台用于放置待加工工件， 所述容置空间内设置有光源模块， 所述支撑台具有透光性， 以使得所述光源模块发出 的光可透过所述支撑台， 所述光源模块 用于为所述支撑台上的待加工 工件提供视 觉定位用光源。 [0005]较佳地， 还包括抽负压装置， 所述支撑台与所述基体之间密 封连接， 以使得所述容 置空间为一密闭空间， 且所述基体上设置有与所述抽负压装置连通的负压孔， 所述支撑台 上设置有 若干吸附通 孔。 [0006]较佳地， 若干所述吸附通 孔均匀分布在所述支撑台上。 [0007]较佳地， 所述支撑台为透光 率在90％以上的玻璃板或树脂版。 [0008]较佳地， 所述基 体采用不锈钢材 料制作。 [0009]较佳地， 所述容置空间内还设置有密封防尘空间， 所述光源模块设置在所述 防尘 空间中， 所述防尘空间的顶部设置有与所述支撑台相对的透光板 。 [0010]较佳地， 所述 容置空间内还设置有用于带动所述 光源模块移动的位移驱动机构。 [0011]较佳地， 所述位移驱动机构包括第一滑动机构和第二滑动机构， 所述第二滑动机 构安装在所述第一滑动机构上， 所述光源模块安装在所述第二滑动机构上， 所述第一滑动 机构用于带动所述第二滑动机构沿X轴方向移动， 所述第二滑动机构用于带动所述光源模 块沿Y轴方向移动。 [0012]与现有技术相比， 本实用新型激光加工平台， 包括基体和 设置于基体上的具有透 光性的支撑台， 而且该基体上设置有容置空间， 光源模块设置在该容置空间中， 因此， 当将 待加工工件放置在支撑台上进 行激光加工作业时， 光源模块从支撑台的背部为待加工工件说　明　书 1/3 页 3 CN 216680706 U 3